삼성전자가 5월 노무현 대통령의 미국 방문에 텍사스에 5억 달러의 대형 투자에 나설 것으로 알려졌다.
24일 업계에 따르면 삼성전자는 다음달 초 미국 텍사스주 오스틴의 기존 반도체 공장의 증설 반입식을 개최할 방침이다. 이에 따라 삼성전자는 기존의 낙후된 미크론 수준의 설비를 일부 들어낸 뒤 나노급의 회로선폭 기술을 적용한 첨단 D램 생산 라인으로 업그레이드할 방침이다.
삼성은 이 공장에 첫해 1억 달러를 투자한 뒤 앞으로 5년간 총 5억 달러를 투입키로 했다. 삼성전자 관계자는 “이번 설비 투자 비용이 통상적인 반도체 투자 규모보다 적은 것은 첨단 노관 기술을 적용하기 때문”이라고 설명했다.
이날 반입식 행사에는 조지 부시 전(前) 미대통령을 비롯, 릭 페리 텍사스 주지사, 이윤우 삼성전자 사장 등이 참석할 예정이다.
이번 설비 업그레이드는 지난해 삼성전자 사업장 중에 유일하게 적자를 기록한 오스틴 공장의 가격 경쟁력을 향상시키고 다음달 11일 노 대통령의 방미에 앞서 한ㆍ미 간 경제우호 분위기를 증진시키기 위한 노력으로 풀이된다.
<문성진기자 hnsj@sed.co.kr>
