강상우 한국표준과학연구원 책임연구원./사진제공=한국표준과학연구원
반도체·디스플레이 생산 공정에 사용되는 나노미터(㎚, 10억분의 1ｍ) 크기 입자의 오염 여부를 실시간으로 진단할 수 있는 기술이 상용화됐다./사진제공=한국표준과학연구원반도체·디스플레이 생산 공정에 사용되는 나노미터(㎚, 10억분의 1ｍ) 크기 입자의 오염 여부를 실시간으로 진단할 수 있는 기술이 상용화됐다.
12일 한국표준과학연구원은 강상우 박사와 김태성 성균관대학교 교수 공동 연구팀이 개발한 실시간 오염 입자 측정 분석장비 ‘PCDS’가 측정장비 업체 코셈에 기술 이전한 지 2년 만에 상용화됐다고 밝혔다.
연구팀이 개발한 기술은 나노입자의 오염 여부를 실시간으로 감지해 미리 제품의 불량 여부를 진단하는 기술이다.
나노입자는 반도체, 디스플레이 소자 개발에 이용되지만 소자를 오염시킴으로써 불량의 원인이 되기도 하는데, 지금까지는 반도체와 디스플레이는 공정 이후에나 불량검사를 실시했다.
이 장비를 활용하면 공정 중간에 미리 불량 여부를 알게 돼 이로 인한 손실을 줄일 수 있게 된다. 불량이 발생했을 때 제품을 전량 폐기하거나 진공 환경에서 분석 장비를 사용하는 데 한계가 있었던 단점을 극복할 수 있는 것이다.
전기 입자 분류 기술 및 고도화된 전자현미경 기술을 활용, 대기압 1만분의 1에 해당하는 진공 환경에서 부유하는 수십~수백 나노미터 크기 입자의 복합 특성을 측정할 수 있다.
강 박사는 “PCDS 장비는 고집적화·대면적화로 성장하고 있는 반도체, 디스플레이 산업에서 불량 감지 및 오염원 추적을 위한 최적의 해결책을 제공한다”면서 “이 장비는 산·한·연이 융합해 기술 사업화를 성공시킨 대표 사례로, 상용화 이후 수천억원의 산업·경제 효과를 거둘 것”이라고 기대감을 내비쳤다.
