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테스, 기판처리장치 관련 특허 취득

입력2017.08.22 13:38:02 수정 2017.08.22 13:38:02

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테스(095610)는 반도체 장비에 적용되는 기판처리 장치 관련 특허를 취득했다고 22일 공시했다.

이 특허는 공정 진행시 챔버 내에서 대칭적인 반응공간을 형성하여 가스의 흐름과 배기를 대칭적이면서 균일하게 하여 막의 균일성을 향상시킬 수 있다.

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박호현 기자

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