'저비용 대면적 나노패턴기술' 개발

KAIST-삼성전자 공동

KAIST 신소재공학과 김상욱 교수팀은 삼성전자 LCD사업부와 공동연구를 통해 나노기술의 오랜 난제로 남아있던 '저비용 대면적 나노패턴기술' 개발에 성공했다고 23일 밝혔다.

연구팀은 분자자기조립현상과 디스플레이용 광리소그래피 공정을 융합해 마이크로미터(1㎛=100만분의 1m) 크기의 패턴을 만든 후, 분자조립현상을 이용해 수십 나노미터(1㎚=10억분의 1m) 크기의 패턴으로 밀도를 백 배이상 증폭시켜 대면적에서 잘 정렬된 나노패턴을 형성시키는데 성공했다.

최근 나노기술 분야에서는 서로 다른 종류의 고분자를 화학적으로 결합시킨 블록공중합체가 새로운 나노패턴소재로 각광받고 있다. 블록공중합체에 이용하게 되면 최신 반도체공정으로도 만들기 힘든 수십 나노미터 크기의 미세한 점이나 선 등을 쉽고 값싸게 제조할 수 있기 때문이다. 그러나 블록공중합체 나노패턴은 그 배열이 불규칙하고 결함이 많아 상용화를 위한 기술적인 걸림돌로 지적돼 왔다.

연구팀은 이 기술이 기존 나노패턴기술에 비해 더 단순하고 공정비용이 저렴해 넓은 면적에서 연속 공정이 가능해 차세대 반도체나 디스플레이 분야에 폭넓게 이용될 수 있을 것으로 기대하고 있다.

김상욱 교수는 "이번 연구결과는 분자조립 나노패턴기술을 저비용, 대면적화 함으로써 실제 나노소자공정에 이용할 수 있는 가능성을 크게 높였다는데 의미가 있다"고 말했다.

한편 이번 연구결과는 나노기술분야 세계적인 학술지인 'ACS 나노지' 19일자 온라인 판에 소개됐다.

<저작권자 ⓒ 서울경제, 무단 전재 및 재배포 금지>