한국과학기술원 기능성고분자연구센터(소장 김성철·金聖喆) 김진백(金鎭伯)교수 연구팀은 반도체용 감광재료 분야에서 기존 반도체 제조공정을 획기적으로 개선시킬 수 있는 건식현상이 가능한 포토레지스트를 세계 최초로 개발했다고 발표했다.포토레지스트는 현상액을 이용해 회로판을 부식시켜 반도체의 미세회로를 입체적인 형상으로 만드는데 핵심적인 감광재료다. 기존의 감광재료는 알칼리 수용액으로 만들어진 현상액을 이용해 습식현상 했는데 포토레지스트의 미세한 선(線)이 현상액의 장력을 이기지 못해 쓰러지는 경우가 많았다. 金교수팀이 개발한 건식현상이 가능한 포토레지스트는 실리콘이 함유된 에스테르기를 도입, 가스반응으로 현상하기 때문에 물의 표면장력에 의한 미세회로 패턴의 붕괴를 방지할 수 있다. 金교수팀은 이 포토레지스트가 미세패턴의 해상도를 높이고 실제 공정에 적용때 공해물질과 공정도 줄일 수 있어 경제적 효과도 클 것으로 기대하고 있다. 박현욱기자 HWPARK@SED.CO.KR 입력시간 2000/03/11 04:08