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에스앤에스텍, 대만서 포토마스크 블랭크 특허
입력
2010.08.17 11:50:23
수정
2010.08.17 11:50:23
에스앤에스텍은 대면적 포토마스크 블랭크에 관한 특허를 대만에서 취득했다고 17일 공시했다. 에스앤에스텍 관계자는 “이번 특허가 대만시장에 등록돼 TFT-LCD 등의 디스플레이 제조용 블랭크 마스크 제품의 기술경쟁력이 향상될 것”이라고 전망했다.
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