앞으로 국내 출원인의 미국 특허출원이 더 편리해지고, 심사도 신속하게 받을 수 있게 된다. 특허청은 한국과 미국 두 나라에 공통으로 신청된 특허출원 가운데 어느 한 국가에서 ‘특허가능’ 심사판정을 받으면 상대편 나라에서 해당 특허출원을 다른 출원보다 먼저 심사하는 ‘한ㆍ미 특허심사 하이웨이 제도’를 전면 실시하기로 했다고 1일 밝혔다. 양국은 지난해 1월부터 시범 시행한 이 제도가 성과가 있었다고 평가하고 지난달 29일 전면 시행에 합의했다. 이에 따라 한국에서 특허 등록되면 미국에서도 2~3개월 안에 등록 여부가 결정되는 등 양국간 특허출원 및 등록 절차가 크게 단축될 전망이다. 이 제도가 시행되기 전에는 미국에 특허심사를 출원하면 한국 특허 등록 여부와 상관없이 결정이 나오기까지 평균 25개월이나 걸렸다. 한국이 특정 국가와 특허심사 하이웨이제를 전면 실시하는 건 이번이 처음이다. 한국은 일본(2007년 4월), 미국(2008년 1월) 등과 이 제도를 시범 실시했고, 덴마크와도 시범 실시에 합의한 상태다. 한ㆍ미 양국은 올해 상반기에 한국 특허청 심사관이 미국 특허상표청 교육에 참가하는 등 양국간 특허심사관 교류를 시행하고, 하반기에는 전략적 우선 심사 프로그램을 도입한다는 계획이다.