나노종합기술원과 KAIST는 공동 연구를 통해 10nm급의 나노 구조를 대면적으로 제작할 수 있는 차세대 공정기술을 개발했다고 5일 밝혔다.

이번에 개발된 공정기술은 자기조립 물질과 플라즈마 이온반응을 이용해 10nm대의 초미세 나노구조체를 대면적으로 제작할 수 있는 차세대 나노구조체 제작 원천기술이다.


기존 기술은 나노 구조체를 만들기 위해 수백억원이상 고가의 형상제작 장비가 필요하지만 이 기술은 간단한 플라즈마 반응에 의해 저비용으로, 10nm급 초미세 3차원 나노구조체를 대면적으로 제작할 수 있다. 이를 통해 향후 반도체, 디스플레이, 전자소자 등 여러 분야에 적용시 기술경쟁력과 가격경쟁력을 동시에 갖출 수 있을 것으로 판단된다.

연구를 주도한 전환진 나노종합기술원 박사는 “반도체를 포함한 미래 전자소자에 필수적인 미세나노구조 제작 기술은 학계와 산업계의 숙원이었는데, 이번에 개발한 기술은 천문학적인 비용의 고가의 장비가 필요 없고 반도체뿐 아니라, 디스플레이, 에너지, 촉매 분야 등에도 그대로 활용할 수 있다는 점에서 산업적 의의가 크다”며 “미래 전자제품 원천기술로서 차세대 반도체·디스플레이 분야에서 경쟁력 확보를 위해 다각적으로 활용될 것으로 기대한다”고 연구의의를 밝혔다.

이번 연구성과는 ‘어드밴스드 매터리얼스’ 8월 4일자 온라인판에 게재됐다.

대덕=구본혁기자 nbgkoo@sedaily.com