KAIST는 이효선 EEWS대학원 박사과정 학생이 ‘제63회 미국진공학회’에서 한국인으로는 처음으로 ‘호프만 장학상(Dorothy M, and Earl S.Hoffman Scholarship Award)’을 받았다고 15일 밝혔다.


지난 1954년 설립된 미국진공학회(AVS)는 화학·물리·생물학 등 다양한 분야의 전문가가 모여 나노과학·표면과학의 발전을 꾀하는 학회로 6∼11일 미국 내슈빌에서 열린 이 학회에는 세계 각국에서 4,500여명의 회원이 참석했다.

호프만 장학상은 전 미국진공학회장이던 도로시 M 호프만의 후원으로 2002년 제정된 상으로 학회에 참석한 대학원생 가운데 최고 수준의 연구결과를 보인 2명을 선정해 시상한다.

이씨는 ‘나노디바이스를 이용한 표면 촉매 반응에서의 핫전자 검출’이라는 주제의 연구로 호프만 장학상을 받았다. 미국 대학 출신이 아닌 학생이 상을 받은 것도 처음이다. /대전=박희윤기자 hypark@sedaily.com