삼성전자가 총 30조원을 쏟아붓는 평택 반도체공장(평택 1라인) 증설에 가속도를 내고 있다. 이달 평택 1라인 1층을 본격 가동한 데 이어 오는 2021년까지 증설을 예고한 2층 일부 구간도 내년 5월부터 당장 가동한다. 이는 시장의 예측보다 적어도 반년 이상 앞선 투자 행보다. 삼성의 이 같은 속도전은 낸드플래시 시장의 공급부족 현상이 심화하는 가운데 글로벌 반도체 시장의 주도권을 확실히 쥐겠다는 ‘초격차 전략’으로 읽힌다. 16일 반도체 업계에 따르면 삼성전자는 최근 협력사들에 공문을 보내 내년 3월 말까지 평택 반도체공장 2층에서 3차원(3D) 낸드 생산에 필요한 장비 납품을 완료해달라고 요청했다. 3월까지 장비가 들어오면 4월 시험가동을 거쳐 5월이면 정상가동에 들어갈 수 있다. 한 장비업계 관계자는 “삼성전자는 평택 1라인 2층을 단계적으로 가동할 예정으로 내년 상반기가 지나기 전에 당장 일부 구간을 가동하겠다는 계획으로 알고 있다”고 전했다.


삼성전자는 앞서 지난 4일 총 15조6,000억원을 투자한 평택 1라인 1층을 공식 가동했다. 삼성은 1층 공식 가동과 함께 총 14조4,000억원을 들여 2층 증설 등에 나설 계획이라고 밝혔다. 평택 1라인은 세계 최대 규모의 ‘복층형’ 반도체공장으로 삼성이 압도적 경쟁력을 가진 64단 3D낸드가 대량 생산된다. /윤홍우·신희철기자 seoulbird@sedaily.com