삼성전자(005930)는 올 2분기에 시설투자로 9조8,000억원을 집행한다고 30일 밝혔다. 부문별로 보면 반도체가 8조6,000억원, 디스플레이가 8,000억원 수준이다.


삼성전자는 올 상반기에만 17조1,000억원을 시설투자에 쏟아 붓는다. 반도체가 14조7,000억원, 디스플레이가 1조6,000억원 수준이다. 전년 동기 10조7,000억원 가량을 집행했다는 점에서 투자비가 1년새 6조4,000억원이 늘었다.

메모리는 향후 수요 증가 대응을 위한 공정 전환과 증설용 설비 중심 투자가 집행됐다. 파운드리의 경우 미세공정 수요 대응을 위한 5·8나노 증설을 중심으로 극자외선(EUV) 노광장비 확보 등의 투자가 이뤄졌다.

삼성전자는 이 같은 투자로 글로벌 1위 파운드리 업체인 TSMC를 맹추격한다는 방침이다. TSMC는 올 2·4분기 실적발표 콘퍼런스콜에서 올해 설비투자 예상액을 160억~170억달러 규모로 제시했다. 올 초 투자 예상액이 150억~160억달러 수준이었다는 점에서 예상 투자 규모가 몇 달새 10억달러가량 늘었다. 삼성전자 또한 이같은 투자 기조가 지속될 경우 올 한해 반도체 부문에만 역대 최대인 30조원 가량을 투자할 것으로 전망된다. 삼성전자가 종합반도체(IDM) 회사라는 점에서 TSMC의 투자금액과 단순 비교는 힘들지만 메모리·시스템LSI 사업부 외에 파운드리 사업부에 투자를 집중할 것으로 전망된다.
/양철민기자 chopin@sedaily.com