해외 대학에서 반도체·정보기술 등 첨단분야를 전공한 우수 인재에게 국내 인턴 활동을 허용하는 방안이 도입된다. 해외 우수 인재의 국내 인턴 활동을 허용해 기업 경쟁력을 강화한다는 취지다.

법무부는 ‘첨단분야 인턴 비자(D-10-3)’를 이달 8일부터 도입한다고 5일 밝혔다. 발급 대상은 미국 시사주간지 타임 선정 200대 대학과 영국 글로벌 대학평가 기관인 ‘QS(Quacquarelli Symonds)’ 세계 대학 순위 500위 이내 대학에서 첨단 기술 분야를 전공한 재학생이나 졸업 3년 이내 졸업생이다. 첨단분야 인턴 비자를 받급 받은 이들은 반도체와 정보기술(IT), 기술경영, 나노, 디지털전자, 바이오 등 첨단 기술 분야 연구시설을 갖춘 국내 상장기업이나 과학기술 분야 정부 출연 연구기관 등에서 일할 수 있다. 특히 이들에게는 인턴활동이 국내 취업으로 이어질 수 있도록 체류 기간을 연장해주고, 취업·창업 비자 변경 시 우대하는 특례도 제공한다. 외국 우수 인재에게 한국 기업 근무 기회를 부여해 우수 인적 자원을 선점할 수 있다는 게 법무부 측 설명이다. 또 국내 기업의 해외 진술 시에 이들이 가교 역할을 할 것으로 기대했다. 다만 기업은 국내 청년 일자리가 침해되지 않도록 고용 인원의 20% 범위 내에서 해외 대학 인턴을 채용할 수 있다. 인력 확보가 어려운 중소·번처기업은 설립 후 3년까지 제한을 받지 않는다.