디스플레이 공정에 적용되는 ‘N2 퍼지 시스템(N2 Purge System)’ 사진 제공=저스템
반도체 장비·부품 업체 저스템(417840)이 디스플레이 시장으로 사업 다각화에 나선다.
저스템은 반도체 웨이퍼 생산 공정에 적용하던 자체 습도 제어 솔루션 ‘N2 퍼지 시스템(N2 Purge System)’을 디스플레이 분야로 적용했다고 13일 밝혔다. N2 퍼지 시스템은 습도를 제어해 수율을 향상시키는 솔루션으로 저스템이 독자 개발한 이후 다수 반도체 기업에 공급해왔다. 이번에 저스템이 디스플레이 분야에 적용하는 N2 퍼지 시스템은 기존 반도체 공정에 적용했던 방식과 동일하게 습도를 제어해 수율을 향상시킨다.
저스템 김용진 연구소장(CTO·최고기술책임자)은 “디스플레이 산업에서도 수율 제고는 필수이며 이를 위한 솔루션의 니즈가 커지고 있다”며 “디스플레이 분야에서도 저스템 솔루션을 확산시킬 것”이라고 말했다.