한국나노마이스터고, 초정밀 반도체회로 공정 성공

고교 최초 80마이크로급 반도체 웨이퍼 패터닝 제작
제조 실습 교육 3년 만에 결실…학생·교사 협력 성과

한국나노마이스터고등학교가 전국 고교 최초로 제작에 성공한 80마이크로급 반도체 웨이퍼 패터닝. 사진제공=경남도교육청

경남 밀양의 한 고등학교 학생들과 교사들이 초정밀 반도체회로 공정에 성공해 눈길을 끌고 있다.


경남도교육청은 한국나노마이스터고등학교가 지난 4월 23일 '80마이크로급 반도체(MOSFET) 웨이퍼 패터닝'을 만들었다고 8일 발표했다. 80마이크로급 반도체는 '트랜지스터 채널 길이가 10-6으로 머리카락보다 더 가는 정밀도를 갖춘 반도체회로'다. 웨이퍼(wafer)는 '집적 회로를 만들 때 쓰는 실리콘 단결정의 얇은 판'을 말하고, 패터닝(patterning)은 '기판에 원하는 회로나 모양을 식각하는 행위'를 말한다.


이는 한국나노마이스터고가 클린룸(반도체 제조 공정 실습동) 교육을 시작한 지 3년 만에 이룬 결실이다. 경남도교육청과 밀양시 지원이 있었고, 대구경북과학기술원(DGIST), 경북대, 포항공대 나노팹 기술교육 등 대학 또는 연구기관과 고교의 교육협력 결과물이다.


다른 시도에도 반도체 관련 교육을 전문적으로 하는 직업계고교가 있지만 80마이크로급 반도체 공정을 성공한 사례는 한국나노마이스터고가 최초다.


소순천·함석호·백성현 교사는 3학년 학생들과 함께 27단계 공정을 매일 5시간 이상 4주 동안 노력해 이번 성과를 달성했다.


소순천 교사는 "대학과 대학원 과정에서 이룰 수 있는 수준의 성과를 우리 학생들과 함께 이뤄 기쁘다"며 "학교가 대한민국을 대표하는 나노반도체 분야 교육기관으로 자리매김했으면 한다"고 말했다.


3학년 학생들도 "우리 손으로 직접 반도체를 만들었다는 것이 뿌듯하고 곧 기업으로 실습과 취업을 나가야 하는데 잘할 것 같다는 자신감이 생긴다"고 입을 모았다.


홍성환 교장은 "선생님들과 학생들이 우리의 기술로 이룬 성과여서 더욱 기쁘고 그동안 미래 산업과 우리 학교를 지원해준 도교육청, 밀양시의 적극적인 협력에 감사한다"고 말했다.


한국나노마이스터고는 제작한 웨이퍼 패턴을 기반으로 국가 나노팹과 심화과정 운영을 통해 전기적으로 동작하는 최종 단계의 반도체소자를 만들 계획이다.


한국나노마이스터고는 2019년 밀양전자고에서 전환해 개교한 나노융합 분야 마이스터고다. 나노반도체 중심 교육과정을 운영하고 있다. 특히 2020년 설립한 '클린룸(Fab)'은 세계적으로도 보기 드물게 고교 안에 설치한 반도체 제조 공정 실습실로 '산화-포토-식각-증착' 등 주요 공정을 교육하고 있다.



한국나노마이스터고등학교 학생과 교사들이 80마이크로급 반도체(MOSFET) 웨이퍼 패터닝 공정에 성공한 뒤 기념사진을 찍고 있다. 사진제공=경남도교육청


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