미국 반도체 기업 인텔이 일본 국립 연구기관인 산업기술종합연구소와 함께 일본에 최첨단 반도체 제조 장비와 소재 연구개발(R&D) 거점을 세우기로 했다.

3일 니혼게이자이신문(닛케이) 보도에 따르면 인텔과 산업기술종합연구소는 수백억엔(약 수천억원)을 투자해 3∼5년 뒤 연구개발 거점을 설립하는 것을 목표로 삼고 있다.

산업기술종합연구소는 일본 연구기관으로는 처음으로 네덜란드 반도체 장비 업체 ASML의 극자외선(EUV) 노광장비를 도입할 방침이다.

라피더스가 올해 12월 EUV 노광장비를 도입하지만 일본 연구기관은 이를 보유하고 있지 않다.

산업기술종합연구소가 연구개발 거점의 운영 주체가 되고, 인텔은 EUV 노광장비를 사용한 반도체 제조 노하우 등을 제공할 계획이다.

일본 기업들은 이용료를 내고 EUV 노광장비를 사용해 반도체 시험 제작 등을 한다.

일본은 반도체 생산에서는 한국·대만에 밀려 뒤졌지만, 반도체 장비와 소재에 강점을 갖고 있다.

인텔은 새 거점을 통해 일본의 반도체 소재 및 장비 업체와 협업을 강화한다.

닛케이는 "미중 대립으로 미국이 중국에 EUV 장비 수출을 규제하고 있으며 EUV에 관련된 장비나 소재도 심사 대상으로 해 해외에서 실시한 연구 성과나 데이터를 일본에 반입하기 위한 과정에 시간이 걸린다"면서 "일본 연구기관에 EUV 장비가 있으면 연구 성과 활용의 장벽이 낮아진다"고 분석했다.

인텔 이외에도 파운드리(반도체 위탁생산) 세계 1위 업체 대만 TSMC가 2022년 이바라키현 쓰쿠바시에 차세대 반도체 연구 개발 거점을 설립했으며 삼성전자도 2024년도(2024년 4월∼2025년 3월) 안에 요코하마시에 연구 거점을 만들 예정이다.