한·일 정부는 오는 2002년부터 출원과정에 있는 특허자료를 공동으로 심사하기로 하고 협력을 확대할 방침이라고 니혼게이자이(日本經濟)신문이 22일 보도했다.보도에 따르면 한·일 양국 중 한 국가에만 신청된 특허의 예비심사 결과를 양국에서 검색할 수 있으며 본심사를 함께 진행하게 된다.
이번 합의 결과 양국에 함께 특허를 출원할 경우 심사기일을 단축할 수 있을 전망이며 특히 생명공학, 정보기술, 전자 분야의 특허출원자들이 많은 혜택을 받을 수 있을 것으로 보인다.
니혼게이자이신문은 두 나라가 특허를 공동 심사하는 것은 사상 최초의 일이라 전하고 양국의 특허출원 및 심사과정이 유사한 것이 이번 합의의 바탕이 됐다고 설명했다.
김호정기자GADGETY@SED.CO.KR
