세계적 포토마스크 기업인 미국의 포트로닉스는 3억 달러(약 3,000억원)를 투자해 수도권지역에 최대 1만평규모의 최첨단 포토마스크 생산 시설을 건설키로 했다고 10일 발표했다.
이 회사는 내년 상반기부터 65nm(나노미터) 및 45nm급 반도체용 포토마스크를 생산, 국내뿐만 아니라 세계 각국에 공급할 계획이다.
포트로닉스는 이를 통해 삼성ㆍ하이닉스ㆍLG필립스LCDㆍ동부아남 같은 주요 반도체ㆍ평판디스플레이(FPD) 기업과 탄탄한 기술력을 갖춘 자회사인 피케이엘이 있는 한국을 전세계 65nmㆍ45nm 생산 거점으로 육성한다는 전략이다.
포토로닉스는 ▦올 3월까지 사업성 검토를 마치고 ▦2분기내 착공 ▦내년 상반기 생산개시를 목표로 경기도 등지를 대상으로 부지 선정 작업을 진행 중이다. 생산 시설 규모는 6,000평에서 최대 1만평 규모로 잡고 있다.
정수홍 포트로닉스 아시아 부문 사장은 “현재 세계 마스크 시장은 반도체 부문에서 일본의 디엔피(DNP)와 토판(TOPPAN)이, LCD 부문에서는 일본의 호야(HOYA)가 포트로닉스와 치열한 경쟁을 벌이고 있다”며 “이번 한국 공장 설립으로 일본에 근거지를 둔 기업들과 달리 고객과의 공동 기술 개발, 품질 인증, 최단기 납기 등에서 신속한 서비스를 제공할 수 있게 됐다”고 말했다.
