반도체ㆍ평판디스플레이 제조장비 업체인 세메스(옛 한국디엔에스)는 차세대 반도체 습식세정장비 및 도포ㆍ현상장비를 개발했다고 27일 밝혔다.
습식세정장비인 ‘오션’은 기존 장비의 1/2 크기지만 시간당 400장 이상의 웨이퍼를 처리하는 등 기능이 두 배로 향상됐다. 웨이퍼 표면에 고집적 미세회로를 형성하기 위해 감광액을 바르고 노광 후 형성된 패턴을 현상하는 전(前)공정장비 ‘나노 스피너(Nano Spinner)’는 90나노미터(㎚) 이하 초미세회로 제조공정용으로 개발했다.
이 회사는 삼성전자의 계열사로 새 개발장비 양산 및 LCD 물류ㆍ모듈사업 진출을 통해 올해 장비업계 최초로 3,000억원(2004년 2,048억원)의 매출을 달성할 계획이다.
