삼성전자가 올해부터 오는 2006년까지 연구개발(R＆D) 및 시설투자를 매년 35% 가량씩 늘려 앞으로 3년간 총 50조원을 투자할 계획이다.
28일 업계에 따르면 삼성그룹이 ‘5ㆍ25 청와대 회동’의 후속 조치로 발표한 투자계획 분석 결과 삼성전자는 올해 총 11조8,200억원에 이어 2005~2006년 총 38조원 가량을 시설 및 R＆D에 투입할 방침이다.
이는 삼성전자가 메모리ㆍ시스템LSI(비메모리반도체)를 비롯해 초박막액정표시장치(TFT-LCD)ㆍ정보통신ㆍ디스플레이 등에서 공격적인 사전 투자를 실시, 자금여력이 충분할 때 미래사업을 선점하고 후발업체와 격차를 더 벌리겠다는 뜻으로 풀이된다.
삼성그룹은 정부의 일자리 및 고용창출 노력에 화답하기 위해 올해부터 3년간 ▦메모리 부문의 시설과 R＆D에 각각 22조원, 5조7,000억원을 투입하고 ▦TFT-LCD는 각각 10조원, 1조6,000억원 ▦정보통신은 각각 2조원, 4조9,000억원 투입 등을 골자로 한 투자계획을 발표한 바 있다.
이번 발표 항목에서 빠진 디지털미디어와 생활가전 부문의 투자액을 합치면 삼성전자는 2006년까지 ▦R＆D 14조원 ▦설비투자 36조원 등 대략 50조원을 투입할 것으로 예상된다.
이에 따라 삼성전자는 2005년 총투자규모의 경우 15조~17조원, 2006년에는 21조~23조원 등으로 매년 35% 가량 늘릴 계획이다. 특히 시설투자는 2005년 11조~12조원, 2006년 16조~17조원 등 2년간 28조여원이 투입되는 등 매년 45% 가량씩 늘어날 것으로 보인다.
민후식 동원증권 애널리스트는 “이 같은 계획은 시황에 따라 축소될 수도 있겠지만 9조4,600억원(올 3월 말 기준)의 현금 보유액이나 매년 12조원 이상의 영업이익을 감안하면 삼성전자의 투자여력은 충분하다”며 “LCDㆍ플래시메모리ㆍ휴대폰 등에서 타이완 등 후발업체의 추격에 쐐기를 박기 위한 것으로 보인다”고 밝혔다.
최형욱기자 choihuk@sed.co.kr
