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삼성전자, 반도체 글로벌 생산체제 강화
美오스틴 공장에 4조5000억 투자 비메모리 전용라인
노희영기자 nevermind@sed.co.kr
삼성전자가 반도체의 해외 글로벌 생산체제 강화에 나선다.
삼성전자는 내년까지 미국 텍사스주 오스틴의 반도체 공장에 36억달러(약 4조5,000억원)를 투자해 비메모리반도체(시스템LSI) 전용라인을 건설한다고 10일 밝혔다.
이에 따라 삼성전자의 유일한 해외 반도체 공장인 오스틴 반도체 공장은 기존 메모리반도체(낸드플래시)뿐만 아니라 비메모리반도체까지 생산하며 명실상부한 해외 생산기지로 거듭나게 된다.
삼성전자는 올해와 내년에 걸쳐 총 36억달러를 투자해 시스템LSI용 전용라인을 신설할 계획이다. 이 신규 라인은 지난해 설비가 노후해 생산을 중단한 오스틴 공장의 8인치(200㎜) D램 생산라인이 있었던 유휴 건물에 들어설 예정이며 12인치(300㎜) 웨이퍼 공정을 활용해 시스템LSI를 생산하게 된다.
지금까지 삼성전자의 비메모리반도체 생산라인 가운데 12인치 라인은 국내 기흥의 S라인 한 곳밖에 없었으나 이번에 오스틴 공장으로 12인치 라인을 확대하게 됐다. 또 삼성전자의 비메모리반도체 전체 생산라인도 기존 4곳(5ㆍ6ㆍ7ㆍS라인)에서 5곳으로 늘어난다.
이에 대해 삼성전자의 한 관계자는 "스마트폰과 태블릿PC 시장 규모가 급증하면서 이에 탑재되는 애플리케이션 프로세서(AP) 등의 수요가 늘어나는 데 대응하기 위한 것"이라면서 "지난달 발표한 올해 투자 계획의 일환"이라고 설명했다. 앞서 삼성전자는 지난 5월17일 올해 메모리반도체(9조원) 및 비메모리반도체(2조원) 시설 투자에 총 11조원을 투자한다고 밝혔다.
한편 삼성전자는 이와 별도로 비메모리반도체 개발을 위해 오스틴에 연구개발(R&D) 센터도 구축하기로 했다.
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