삼성전자가 이르면 올해 안에 5조~7조원을 투입해 화성 반도체공장 설비 2개 라인 증설에 착수할 계획이다.
삼성전자 관계자는 “화성 12라인과 13라인 투자계획에 대한 밑그림이 거의 그려졌으며, 오는 9월말 계획을 확정 발표할 예정”이라며 “시장 상황에 따라 올해 안에 투자가 개시될 수도 있다”고 24일 밝혔다.
이 관계자는 “투자액을 밝힐 단계는 아니다”면서도 “업그레이드 설비가 도입돼야 한다는 점에서 반도체 생산설비에 들어가는 통상 수준의 투자를 약간 웃도는 정도가 될 것”이라고 귀띔했다.
삼성전자 12라인은 현재 웨이퍼 1만3,000장 처리 수준의 1차투자가 집행됐고, 2차와 3차 투자가 예정돼 있다. 반도체 1개라인의 투자소요금액은 3조~4조원이므로 12라인과 13라인의 투자규모는 대략 5조~7조원으로 추산된다. 업계에서는 12라인에 대한 투자는 올해, 13라인에 대한 투자는 내년에 집행될 것으로 보고 있다.
삼성전자는 올해 총투자 예정액 6조7,800억원 가운데 반도체에 5조7,700억원(메모리 3조2,900억원, LCD 1조6,400억원, 시스템LSI 8,400억원)을 투자할 계획이었다.
이 회사 관계자는 “이번 투자확대 계획은 D램에 국한된 것이 아니고, 급성장하고 있는 플래시메모리 시장을 선점하기 위한 다중포석”이라며 “지난해 16%였던 플래시 생산비중을 2005년까지 35%수준으로 끌어올릴 계획”이라고 설명했다.
한편 세계반도체협회(WSTS)에 따르면 플래시메모리 시장규모는 차세대휴대폰ㆍPDAㆍ모바일PC의 대중화에 힘입어 2002년 77억달러에서 2004년 128억달러로 급성장할 전망이다.
<문성진기자 hnsj@sed.co.kr>
