테스는 31일 반도체 제조용 서셉터(susceptor) 유닛 및 이를 통한 실리콘 산화막의 건식 식각방법에 관한 특허를 취득했다고 공시했다. 회사측 관계자는 “이 발명을 반도체 제조장비에 적용하면 동일 챔버 내에서 저온∙고온 두가지 종류의 반도체 제조공정을 모두 수행할 수 있다”며 “작업처리량의 극대화는 물론 기판 이송횟수를 줄여 오염을 최소화할 수 있다”고 밝혔다.
