대법원 양형위원회는 10일 제78차 전체회의를 열고 이 같은 내용의 양형기준 수정안을 심의·의결했다고 밝혔다. 수정된 양형기준은 다음 달 15일, 새로 설정된 양형기준은 오는 7월1일부터 시행된다.
위원회는 지식재산권범죄 중 영업비밀침해행위의 가중영역 형량범위 상한을 국내 침해의 경우 3년에서 4년으로, 국외 침해의 경우 5년에서 6년으로 상향했다. 기본영역 형량도 상한을 국내 침해의 경우 1년6월에서 2년으로, 국외 침해는 3년에서 3년6개월로 각각 늘렸다. 이번 양형기준 수정으로 해외 기업이 국내 기업의 기술을 침해하면 최대 징역 6년형이 선고될 수 있게 됐다.
위원회는 또 지식재산권 범죄의 특별가중인자인 ‘권리자(피해자)에게 심각한 피해를 초래한 경우’의 정의규정에 대기업에 의한 중소기업기술의 침해 등에 대한 내용을 추가해 가중처벌을 할 수 있도록 했다. 구체적으로 ‘중소기업기본법의 중소기업과 경쟁관계 또는 납품·도급관계에 있는 대기업에 의한 중소기업기술보호법상의 중소기업기술의 침해 또는 유출인 경우’를 추가했다.
위원회는 증거인멸과 증거은닉을 위증죄의 새로운 양형 유형으로 추가하는 내용의 위증범죄 양형기준 수정안도 최종 의결했다. 통화 위·변조와 유가증권 위·변조, 부정수표 발행 범죄에 대한 새로운 양형기준도 마련했다.
