특허청은 플라즈마 관련 특허출원이 2012년 15건에서 2016년 165건으로 가파르게 증가했다고 3일 밝혔다.
분야별로 주로 반도체 제조과정에서 많이 쓰이는 표면 처리용 플라즈마 장치가 2012년 4건에서 2016년 136건으로 급증했다. 표면 처리 장치 분야는 최근 5년(2012~2016년)간 플라즈마 출원 기술의 72%를 차지한다.
고체 상태의 물질에 에너지를 주면 액체로, 다시 기체로 변한다. 기체에 더 큰 에너지를 가하면 원자핵과 전자로 분리돼 이온 형태가 되는 데 이를 플라즈마라고 한다. 플라즈마는 전기장과 자기장으로 제어할 수 있어 다양한 분야에 응용된다.
플라즈마를 이용하면 물건에 절연막이나 전도성 막 등 얇은 막을 씌울 수 있어 독성이 강한 화학약품을 대체하고, 기존보다 대량으로 처리할 수 있다. 이 장점으로 반도체 고밀도 집적회로 등 정밀 제조 공정과 디스플레이, 유리창, 섬유 등 산업 공정 곳곳에서 플라즈마가 활용된다고 특허청은 설명했다.
성백문 특허청 전력기술심사과장은 “플라즈마는 살균과 녹조제거, 자동차 매연 저감장치, 치아 미백과 기미 치료 등 새로운 응용분야에서 널리 사용된다”며 “관련 특허출원은 꾸준히 증가할 것”이라고 내다봤다.
