산업 산업일반

국내 제조사 처음으로…OCI, SK하이닉스에 반도체 인산 공급

D램 등 全반도체 공정서 쓰여

삼성·DB하이텍 등서도 활용

국내 시장 '점유율 1위' 수성

OCI 군산공장 전경. 사진 제공=OCIOCI 군산공장 전경. 사진 제공=OCI




OCI(456040)가 국내 반도체 소재 제조사 가운데 처음으로 SK하이닉스(000660)의 반도체 인산 공급자로 선정됐다고 2일 밝혔다.

OCI는 SK하이닉스의 품질 테스트를 거쳐 반도체 인산 제품 공급에 대한 승인을 획득하고 지난달 21일 전북 군산공장에서 초도품 출하 기념식을 했다.



반도체 인산은 반도체 생산의 핵심 소재 중 하나로 반도체 웨이퍼의 식각 공정에 사용된다. 식각 공정은 액체 또는 기체의 부식액을 이용해 웨이퍼에서 불필요한 부분을 선택적으로 제거함으로써 반도체 회로 패턴을 만드는 과정이다. OCI의 반도체 인산은 D램과 낸드플래시·파운드리까지 모든 반도체 공정에 사용되는 범용 소재다. 회사는 고대역폭 메모리(HBM) 성장과 반도체 시황 회복에 따라 수요가 꾸준히 증가할 것으로 전망한다.

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2007년 반도체 인산 사업에 진출한 OCI는 현재 연간 2만 5000톤 규모의 생산능력을 보유하고 있다. 지난 17년간 삼성전자와 SK키파운드리·DB하이텍 등 국내 주요 반도체 업체를 대상으로 인산을 공급하면서 국내시장 점유율 1위를 달성했다. 신규 고객사 확보 및 기존 고객사의 수요 증가에 따라 단계적으로 반도체 인산 생산능력을 증설할 계획이다. OCI 관계자는 “이번에 SK하이닉스를 신규 고객사로 추가해 국내 모든 반도체 제조사에 인산을 공급하는 유일한 업체가 됐다”고 설명했다.

OCI 관계자들이 SK하이닉스향 반도체 인산 첫 출하 기념식을 열고 기념 촬영을 하고 있다. 사진 제공=OCIOCI 관계자들이 SK하이닉스향 반도체 인산 첫 출하 기념식을 열고 기념 촬영을 하고 있다. 사진 제공=OCI


OCI는 반도체 생산 과정 중 세정 공정에 필수인 과산화수소 제품에서도 향후 매출 성장이 이뤄질 것으로 기대하고 있다. 올해 반도체 업황이 회복세에 접어들면서 삼성전자와 SK하이닉스가 다시 증설을 계획하고 있고 고객사인 일본 낸드플래시 기업 키옥시아가 올 7월 월 2만 5000개의 웨이퍼를 생산할 수 있는 신규 공장을 완공함에 따라 추가 수주가 기대된다.

OCI는 연산 7만 5000톤의 과산화수소 생산능력을 보유하고 있다. 최근 피앤오케미칼의 지분 인수 결정으로 연산 5만 톤 규모의 과산화수소 생산능력을 증대해 고객사 증설에 따른 수요 증가에 선제적으로 대응할 수 있게 됐다고 설명했다. 김유신 OCI 사장은 “앞으로도 반도체 수요 증가에 발맞춰 반도체 소재 사업을 성공적으로 확대하고 경쟁력을 강화해 반도체 소재 기업으로서 입지를 강화해나갈 것”이라고 말했다.


유민환 기자
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