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테스, 플라즈마 처리장치 관련 특허권 취득

입력2010.08.24 14:39:11 수정 2010.08.24 14:39:11
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테스는 플라즈마 처리장치와 관련해 특허권을 취득했다고 24일 공시했다.

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회사 측은 “이번 특허는 기판의 정렬 오차를 종전보다 줄일 수 있고 상부전극과 하부전극의 간격을 보다 정밀하게 제어할 수 있어 공정효율을 극대화할 수 있다”며 “또한 기판의 배면 전체에 존재하는 파티클 및 퇴적물도 효과적으로 제거할 수 있다”고 설명했다.


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