日 교토 'VLSI 심포지엄'서 국내 이공계 대학원생으론 처음
한국과학기술원(KAIST)은 전자전산학과 박사과정의 이현진(28)씨가 최근 일본 교토에서 열린 저명 국제 학술회의인 '초고집적회로(VLSI) 심포지엄'에서 '최우수 학생논문상(Best Student Paper Award)'을 국내 이공계 대학원생으로는 최초로 수상했다고 19일 밝혔다.
이씨는 지난해 발표한 '전면 게이트 나노전자소자 구조를 통한 5나노미터(nm) 이하급 트랜지스터 개발(Sub-5nm All-Around Gate FinFET for Ultimate Scaling)' 논문으로 이 상을 수상했다. 이 논문은 차세대 테라급 반도체 소자의 새로운 구조 제안 및 개발에 관한 내용으로 기존 실리콘 반도체 기술의 한계를 진일보시켰다는 평가를 받고 있다.
올해로 27회를 맞이하고 있는 초고집적회로 심포지엄은 매년 미국 하와이와 일본 교토에서 번갈아 열리는 세계 최고 수준의 반도체 국제학술회의이며 최우수 학생논문상은 국제전기전자기술협회(IEEE)와 일본응용물리협회가 선정, 시상하고 있다.
