일본 반도체 업계가 공동으로 2,000억엔(약 2조원)을 투자해 차세대 반도체 개발에 나선다. 일본 반도체 업체들이 공동 생산을 추진하는 것은 이번이 처음으로 삼성전자ㆍ인텔 등 세계적인 반도체 업체들과 경쟁하기 위해 힘을 합친 것으로 분석된다.
18일 요미우리(讀賣)신문에 따르면 일본 도시바ㆍ마쓰시타전기ㆍ히타치제작소ㆍNECㆍ르네사스테크놀로지 등 대형 반도체 5개사는 지난 17일 차세대 반도체 개발ㆍ생산에 합의하고 사업 추진을 위한 법인을 설립하기로 했다. 이들은 내년에 공장을 건설, 각사에서 하청을 받아 오는 2007년부터 세계 최첨단의 대규모 집적회로(시스템 LSI)를 생산할 계획이다.
또 이 공장에서는 이미 실용화돼 있는 배선폭 90㎚(1㎚는 10억분의1m)보다 정밀한 65㎚ 이하의 시스템 LSI를 제조할 예정이다. 공장 건설에 소요될 2,000억엔은 일본 안팎의 투자펀드를 통해 모집하고 공장 건설지는 간토(關東)나 규슈(九州) 지방 등 두 곳이 거론되고 있다.
신문은 일본 반도체 업계가 ‘히노마루(일본 국기) 반도체’의 부활을 도모하고 있다고 지적했다.
