AIO는 지난 97년 본격적인 반도체 장비 생산에 나서기 전부터 연구개발(R&D)에 사활을 걸었다. 그 결과 반도체 장비중 트랙 시스템이나 세척 및 건조시스템 분야에서는 전세계적으로 가장 우수한 기술력을 확보한 것으로 평가받고 있다.특히 지난 97년부터 AIO는 기술 및 신제품 개발을 위해 공격적인 전략을 펼쳤다. 이같은 공격 경영으로 한때 자금난을 겪기도 했지만 기술 우위의 경영은 이제 알토란같은 결실을 맺고 있다. AIO는 최근 2년간 트랙 시스템과 세척 및 건조 시스템 분야에서 신규 특허를 잇달아 출원, 상품화하는 개가를 올리고 있다.
현재 AIO가 절대적인 기술 우위를 점하고 있는 분야는 트랙시스템과 건조시스템. 트랙 시스템은 반도체 웨이퍼에 감각제를 바르고 현상 과정을 거쳐 트랜지스터 등을 집적하는 제품이다. 한편 세척 및 건조 시스템은 트랜지스터 집적 과정에서 불순물을 제거한 후 건조하는 것이다.
AIO의 트랙시스템은 1미크론(1미크론은 100만분의 1미터) 이하의 처리 기술을 갖고 있을 뿐 아니라 월등히 높은 처리량을 자랑한다. 또한 시스템이 높은 안정성을 갖고 있는데다 트랜지스터 집적 과정에서의 잔류 오염량도 아주 적다는 것도 강점이다.
또한 트랙시스템과 함께 제공되는 AIO의 소프트웨어는 사용과정에서 이용자의 편의를 최대한 보장한다는 평가를 받고 있다. 더욱이 AIO는 노후화된 트랙시스템을 보수할 수 있는 복구 시스템도 함께 제공해 고객들의 비용절감을 돕고 있다.
세척 및 건조 시스템도 AIO가 자랑하는 주력 제품이다. 현재 AIO의 세척 및 건조 시스템은 알콜을 이용한 IPA 증기 건조기다. 기존 회전 린스 건조기는 건조과정에서 진동이 많아 크기 변동이 어려울 뿐 아니라 잔류 오염물질도 상대적으로 많다. 반면 IPA 증기 건조기는 이같은 문제점을 말끔히 해결했다.
이에 따라 AIO의 세척 및 건조시스템은 실리콘 웨이퍼, 하드디스크 드라이브, 평판 디스플레이 등을 잔류 오염물질을 최소화하면서 건조하는데 널리 사용되고 있다. AIO는 지난 97년 이같은 건조기와 관련된 특허를 출원한데 이어 잔류 오염물질을 더욱 축소키 위해 기술 개발에 박차를 가하고 있다.
개리 페렐 AIO 최고 기술책임자(CTO)는 『최근 우리는 일련의 특허를 통해 우리가 보유한 기술이 안정적이고, 효율성이 높아 거의 혁명적인 수준에 도달했다는 평가를 받고 있다』고 자랑스럽게 말했다.
/TIMOTHY@SED.CO.KR
