산업 산업일반

표준硏, 0.03 나노미터급 박막두께 측정기술 개발

한국표준과학연구원은 나노이미징기술센터 편광계측팀이 0.03nm(나노미터)의 두께를 정확히 측정할 수 있는 초고속 다채널 분광 타원계측기 개발에 성공했다고 16일 밝혔다. 다채널 분광 타원계측기는 반도체 및 디스플레이 등 나노두께의 박막을 측정하는데 활용하는 장치다. 이번에 개발된 장치는 2천여 개에 달하는 데이터 스펙트럼을 동시에 측정하는 데 1천분의 9초밖에 걸리지 않아 기존 반도체 산업용 장비의 측정속도보다 5배 이상 빠르다. 특히 노출시간, 모터속도, 회전 당 노광횟수 등을 조절하기 위해 하드웨어를 변경해야만 했던 기존 장치와 달리 소프트웨어의 변경만으로 최적의 측정조건을 만들 수 있다. 또 각 부품에 대한 성능점검이 간편해져 측정장비의 개발에서부터 상용화단계까지의 모든 과정에서 사용자 편의성이 향상됐다는 것이 연구팀의 설명이다. 이번 연구결과는 국내외 특허 출원을 완료했으며, 광학분야 권위지인 옵틱스 레터스 1월호에 소개됐다. 편광계측팀 조용재 박사는 “이번 기술 개발로 약 5천억원에 달하는 전 세계 반도체 장비 시장에서 기술 수출에 따른 경제적 효과가 기대된다”며 “또 신약후보 물질 초고속 스크리닝 등의 나노바이오 측정장비, 화학적 가스 센서 제작 등 다양한 분야에 적용이 가능하다”고 말했다.

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