테스는 가스배기 시스템 및 반도체 제조장치 및 이를 이용한 박막제조방법에서 특허권을 취득했다고 24일 공시했다. 회사 측은 “이번 특허는 반응 가스가 샤워헤드에 균일하게 분포되고 빠르게 히터 위의 기판 상에 분사될 수 있다”며 “또한 반응 가스가 샤워헤드를 통해 기판에 도달하는 시간을 최소화하여 반응이 일어나는 온도가 안정화되는 시간을 최소화할 수 있다”고 설명했다.
