삼성전자는 오는 7월부터 경기도 화성의 12라인에서 세계최초로 12인치 웨이퍼에 회선폭 90나노(1나노=10억분의 1m)를 적용한 반도체생산라인을 가동한다고 4일 밝혔다.삼성전자 고위 관계자는 “화성공장의 12인치웨이퍼 생산라인에 90나노 적용 준비가 거의 마무리됐다”며 “이르면 7월초 월 1만~1만5,000장의 나노제품 생산을 시작할 수 있을 것”이라고 말했다. 이 공장에서는 주로 휴대폰ㆍ디지털카메라 등에 쓰이는 플래시메모리가 생산된다.
이 관계자는 “이번 화성 12라인 가동으로 삼성은 플래시메모리의 생산능력을 최소한 두 배이상 늘릴 수 있게 됐다”고 설명했다.
12인치웨이퍼는 기존의 8인치에 비해 면적이 2.5배 커 생산량도 그만큼 늘릴 수 있다. 또한 회선폭은 0.2마이크론(1마이크론=100만분의 1m) 줄 경우 25%정도의 생산증대 효과가 있다.
민후식 동양증권 투자분석가는 “이번 12인치-90나노의 생산라인 가동으로 삼성은 플래시메모리 분야에서 세계 최강의 경쟁력을 갖추게 됐다”며 “이르면 올해 안에 인텔을 제치고 세계 1위(분기 순위) 플래시메모리 업체로 올라설 수도 있을 것”이라고 말했다.
<문성진기자 hnsj@sed.co.kr>
