영업이익은 2012년 2,273억원의 영업손실을 기록한 데서 1년 만에 다시 흑자로 돌아서며 사상 처음으로 3조원대 고지를 돌파했다. 매출도 2012년(10조1,622억원)보다 39.4%나 증가하면서 사상 최대 실적을 갈아치웠다. 연간 순이익 역시 2조8,730억원을 벌어들이며 매출과 영업이익, 순이익 모두 새로운 기록을 썼다.
특히 SK하이닉스는 지난해 영업이익률 23.9%를 기록하면서 삼성전자 반도체 사업부문의 영업이익률(18.4%)를 앞지르는데 성공했다. SK하이닉스가 삼성전자 반도체의 영업이익률을 앞선 것은 지난 2006년 이후 7년 만에 처음이다.
SK하이닉스의 눈부신 실적 개선은 지난해 지속적인 기술혁신과 수익성 중심의 제품 운영으로 사업 역량을 강화한 데다 시장구도 재편 등 우호적인 가격 환경이 지속되면서 D램과 낸드플래시 등 모든 제품의 매출이 늘어난 결과라고 회사 측은 분석했다.
이 같은 실적 호조에 힘입어 재무안정성도 대폭 개선됐다. 지난해 말 기준 SK하이닉스의 현금성 자산은 2조7,860억원으로 전년 대비 1조원 가량 늘어난 반면 같은 기간 차입금은 1조9,000억원 줄어든 4조5,500억원을 기록했다.
SK하이닉스는 올해도 반도체 수요를 지속적으로 이끌어갈 모바일 시장 등의 변화에 적기 대응함으로써 수익성 중심의 경영을 강화하고 양적 성장을 넘어 질적 성장에 주력할 계획이다.
D램은 본격 양산되는 20나노 중반급 제품에서 PC와 모바일 제품 사이의 공급시기 격차를 줄이고 모바일 D램의 라인업을 확대할 예정이다.
또 올해 서버에 채용되는 DDR4 시제품을 적기에 공급하고 첨단 실리콘관통전극(TSV) 기술을 적용한 초고속 메모리 HBM 제품을 출시해 업계 선두의 기술 경쟁력을 유지해나간다는 전략이다.
SK하이닉스는 올해 최대 4조원 규모의 시설투자 계획도 발표했다. 지난해 우시공장 복구 비용을 포함한 3조5,600억원의 투자 집행금액보다 5,000억원 가량 늘어난 수치다. SK하이닉스는 지난해 말 발표한대로 기존 이천공장의 노후화된 설비를 대체하기 위한 신규라인 건설에 대대적인 투자를 단행할 방침이다.
