반도체·디스플레이용 블랭크마스크 전문기업 에스앤에스텍(101490)이 주력 사업인 블랭크마스크 역량 강화를 통해 차세대 반도체와 디스플레이 시장 선점에 나선다.
에스앤에스텍은 지난 24일 서울 여의도 증권거래소에서 기관투자자와 애널리스트를 대상으로 블랭크마스크 사업 강화 및 기업 현황에 대한 설명회를 가졌다고 25일 밝혔다.
에스앤에스텍은 “올해 삼성전자 시스템 대규모직접회로(LSI) 사업 강화, SK하이닉스 2세대 10nm D램 양산계획 등 전방산업 호조와 중국의 액정디스플레이(LCD)·유기발광다이오드(OLED) 생산라인 대폭 확장으로 포토마스크 원재료인 블랭크마스크 수요 증가가 예상된다”면서 “이에 대응할 수 있는 기술력과 생산시설을 확보했다”고 밝혔다. 이어 “폴더블·전장·VR 등 미래 산업 분야에서 OLED 수요 증가에 따라 블랭크마스크 수요도 증가할 것”이라며 “올해에도 실적 향상이 지속 될 것”이라고 전망했다.
에스앤에스텍은 지난해 매출액 610억원, 영업이익 51억원으로 전년대비 각각 13%, 112% 증가하며 창사 이래 최대 매출 실적을 달성했다. 에스앤에스텍은 미래 수익 사업으로 아직 세계적으로 상용화되지 않은 EUV용 펠리클 개발에 박차를 가해 향후 급격한 성장이 예상되는 EUV 펠리클 시장을 선점하겠다는 계획이다.
에스앤에스텍은 지난해 9월 미국 EUVL 심포지움에서 개발 중인 경쟁사 대비 우월한 수준인 투과율 88%를 확보한 펠리클 시제품을 발표했으며 이는 양산에서 요구하는 대면적 풀 사이즈 사양에 만족하는 성과다. 에스앤에스텍 관계자는 “반도체 기술 고도화에 따라 미세공정 기술 확보와 EUV용 펠리클 개발을 통해 새로운 도약의 발판을 마련하겠다”고 말했다.