2차전지 설비 전문 업체 디에이테크놀로지(196490)가 연이은 기술개발에 성공하며 경쟁력을 강화하고 있다.
디에이테크놀로지는 장폭 셀 스태킹 설비 개발에 성공했다고 5일 밝혔다.
개발된 장폭 셀 스태킹은 최고 속도 0.5/sheet에 달하는 설비로 기존 장폭 적층 Z-스태킹 중 최고의 속도를 지니고 있다. 이번 개발은 그동안 지속적으로 발생했던 이매 분리 이슈를 해결하고, 국외 기업의 장폭 셀 증설 계획에 따라 개발이 진행됐다.
이번에 개발된 장폭 셀 스태킹에는 크게 3가지의 신규 기술이 적용됐다. P&P 유닛이 동작하는 동안 매거진 유닛에서 바이브레이션 패드를 통해 이매분리가 진행되는 신규 방식을 차용했다. 또한 첫 번째 P&P유닛과 두 번째 P&P유닛을 동시에 작동하는 구조로 롱 셀 이송시 택트 타임을 최소화했고, 신규 적층방식을 활용해 셀 무너짐 현상을 완화했다.
최근 디에이에테크놀로지는 지속적으로 기술연구 개발에 힘쓰고 있다. 지난달 2차전지의 와인딩 방식 셀 스택 제조 장치 및 방법에 관한 특허를 취득했으며, 고속 레이저 노칭 장비 개발에도 성공한 바 있다.
디에이테크놀로지 관계자는 “이번 장폭 셀 스태킹 설비 개발에 성공하면서 2차전지 시장에서 당사의 입지가 더욱 강화될 것으로 기대된다”며 “올 하반기에도 국내외 배터리 증설 이슈가 있는 만큼 기술경쟁력을 통해 수주를 확대해 나가겠다”라고 말했다.
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