테스는 반도체 제조장비 및 이를 이용한 실리콘 산화막 건식 식각 방법과 관련해 특허권을 취득했다고 10일 공시했다. 회사에 따르면 이 발명은 채널을 여러 개로 하기 때문에 공정 중 기판 온도변화가 필요할 때 채널의 선택적 사용으로 보다 유연하게 대처할 수 있다. 회사 측은 이번 특허를 장비 제조 및 개발에 활용해 기술경쟁력 및 원가경쟁력을 향상시킬 계획이다.
