최동규(오른쪽 두 번째)특허청장과 류준첸(왼쪽 두 번째) 중국 공상행정관리총국 부국장이 지난 21일 중국 베이징에서 제4차 한중 상표 분야 청장금 회담을 열고 양국간 주요 상표 현안에 대해 논의하고 있다./사진제공=특허청한중 특허 당국이 양국간 악의적 상표 선점 방지에 협력하기로 합의했다.
특허청은 지난 21일 중국 베이징에서 중국 국가공상행정관리총국과 제4차 한중 상표 분야 청장급 회담을 개최하고 악의적 상표선점 등 양국 간 주요 현안과 관련해 협력방안을 논의했다고 23일 밝혔다.
한중 FTA 발효 후 처음 열린 이번 회담에는 최동규 특허청장과 류준첸 중국 공상행정관리총국 부국장(차관급)이 수석대표로 참여했다.
양국은 모방상표 등록 방지를 위한 선제적 협력 방안에 합의했다. 특히 한글 상표, 한류 콘텐츠를 통해 잘 알려진 브랜드 등 한국 상표를 모방한 것으로 의심되는 중국내 출원에 대해서 당국 간 정보 공유를 통해 심사 단계에서 원천적으로 등록이 방지 될 수 있는 협력 체계를 구축하기로 했다.
또 모방상표가 심사단계에서 걸러지지 않았더라도 이의신청 중 정보공유를 통해 등록을 방지하는 사후적 협력체계 구축에도 합의했다. 이에 따라 등록된 모방상표를 다시 무효로 하기 위해 상당한 시간적, 경제적 피해를 감수하는 우리 기업들의 부담이 많이 줄어들 전망이다.
한중 상표 당국은 이 같은 정보공유를 조속히 구현하기 위해 모방상표를 손쉽게 검색하고 이를 신속히 통보할 수 있는 시스템을 구축하는 방안을 협의하기로 했다.
특허청은 중국에서 모방한 것으로 의심되는 상표 리스트를 주기적으로 중국 당국에 제공할 방침이다.
최동규 특허청장은 “중국과의 상표 분야 협력은 우리 기업의 경쟁력 강화와 해외 진출 확대를 위해 특허청이 우선순위를 두고 추진하는 분야”라며 “이번 회담을 통해 확인된 중국의 지재권 보호 의지와 상호신뢰를 바탕으로 양국의 기업들이 안심하고 활동할 수 있는 환경을 조성해 나갈 것”이라고 말했다.
