반도체 미세회로의 설계 및 제작공정을 획기적으로 개선, 저비용 대량생산이 가능한 차세대 `자외선 나노임프린트 리소그래피' 공정과 장비가 국내 연구진에 의해 개발됐다.
한국기계연구원 이응숙 박사 연구팀은 현재 반도체 미세회로 설계, 제작에 이용되는 광리소그래피 공정 대신 선폭 50나노미터(㎚)급의 나노패턴을 값싸게 제작할 수 있는 자외선 나노임프린트 리소그래피 공정과 장비를 개발했다고 15일 밝혔다.
`나노임프린트 리소그래피(NIL.Nano Imlithography)기술'은 1996년 미국프린스턴대학 연구팀이 제안한 것으로, 경제적이고 효과적으로 나노구조물을 제작할수 있는 첨단기술로 평가된다.
과학기술부 나노메카트로닉스기술개발사업단의 지원을 받아 개발한 자외선 나노임프린트 공정기술은 대기압 상태에서 5인치 이상 대면적의 스탬프를 사용해 자외선 나노임프린트 공정이 가능한 세계 최초의 기술이라고 연구원측은 설명했다.
연구원측은 국내 반도체 관련 장비업체들에 관련기술을 적용한 장비를 이전, 곧상용할 계획이다.
연구원 관계자는 "이번에 개발한 기술은 향후 10년안에 3천억-3천500억달러로 확대될 나노기술 응용 메모리와 차세대 디스플레이 제작에 적용될 수 있다"고 밝혔다.
