에스앤에스텍은 서울 코엑스에서 열린 ‘2010년도 무역의 날’ 행사에서 ‘2,000만불 수출의 탑’을 수상했다고 30일 밝혔다.
에스앤에스텍은 전량 수입에 의존하던 포토마스크의 핵심 원재료인 블랭크 마스크 국산화 개발에 성공하여 대만, 중국, 홍콩, 싱가포르, 일본 등에 수출을 이어간 공로를 인정받아 이 상을 수상하게 됐다.
블랭크 마스크는 반도체 및 TFT-LCD 의 핵심 공정인 리소그라피 공정의 핵심 재료인 포토마스크(Photomask)의 원재료로 패턴이 노광되기 전의 마스크를 의미한다.
에스앤에스텍은 일본업체와의 특허 승소를 기반으로 지난 5월 하이엔드 제품 중 하나인 PSM(위상시프트) 블랭크 마스크 시장 진출에 시동을 걸었으며 특히, TFT-LCD용 TM 블랭크 마스크의 경우 판매 실적이 지속적으로 이루어지고 올 해부터는 신규 고객이 증가함에 따라 고객다변화가 이루어졌다.
에스앤에스텍 관계자는 “모든 임직원의 열정과 도전의식을 바탕으로 블랭크 마스크 개발 및 수출에 힘쓴 결과 2,000만불 수출의 탑을 수상할 수 있었다“며 “앞으로도 끊임없는 기술개발을 통하여 하이엔드 제품의 비중을 높이고 해외시장 공략 및 고객만족에 더욱 적극적으로 나설 것”이라고 말했다.
