삼성전자 “신규 생산라인에 2조2,500억원 투자”

삼성전자는 이사회를 열어 시스템반도체 생산라인 신규건설에 2조2,250억원을 투자하기로 결정했다고 7일 공시했다.

삼성전자는 “화성사업장에 시스템반도체 생산라인을 신규로 건설하여 300㎜ 웨이퍼 라인을 통해 20나노 및 14나노의 최첨단 공정을 적용한 모바일AP 제품을 주력으로 생산할 계획”이라고 설명했다.



이는 자기자본금의 2.53%에 해당하며 시스템반도체 수요증가에 대응하기 위한 것이다. 투자기간은 2014년 3월31일까지다.

/온라인뉴스부