산업 기업

삼성전자 올해 전세계 반도체 투자 최대

SK하이닉스도 공세

지난해 D램 시장 약세로 시설투자 규모를 줄였던 삼성전자와 SK하이닉스가 올해 다시 공격적인 투자에 나선다. 삼성전자는 올해 전 세계 반도체 업계에서 가장 많은 125억 달러(약 14조5,000억원) 규모의 자본적 지출(CAPEX·시설투자)를 집행할 것으로 전망됐다.

7일 시장조사기관 IC인사이츠에 따르면 삼성전자는 올해 전년 대비 11% 증가한 규모의 시설투자를 단행할 전망이다. D램 가격이 작년에는 약세를 보였지만 올해에는 ‘반도체 슈퍼사이클’이 예고되는 등 반도체 경기가 회복되고 있기 때문이다. 삼성전자는 작년에는 전년보다 13% 줄어든 113억달러를 투자했는데 메모리와 시스템LSI의 비중은 약 8대2라고 밝힌 바 있다.

삼성전자 시설투자는 경기도 평택에 집중될 것으로 보인다. 삼성은 세계 최대 규모의 반도체단지를 짓고 있으며 올해 중반부터 V-낸드를 양산할 계획이다. 시설투자가 늘어나면서 반도체 부분의 고용도 늘 것으로 예상된다.


SK하이닉스의 시설투자 규모는 세계 4위로 올해 60억달러(약 7조원)를 집행할 방침이다. 작년에는 전년보다 14% 줄어든 51억8,800만달러(약 6조5,000억원)를 기록했다. SK하이닉스는 올해 D램 투자는 줄이고 3D 낸드 생산량 확대를 위한 투자는 늘리기로 했다. 올해 시설투자 증가분은 경기도 이천 공장 M14의 클린룸 건설과 관련 인프라에 쓰인다.

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시스템 반도체 시장의 절대 강자인 인텔도 공격적인 시설투자를 집행할 것으로 전망됐다. 올해 시설투자 예측규모는 120억달러(약 14조원)로 삼성전자에 이어 2번째로 많은 수준이다. 인텔은 2016년에 전년 대비 투자액을 31% 늘린데 이어 올해도 25%나 늘릴 것으로 예상됐다.

이밖에 세계 최대 반도체 수탁생산(파운드리) 업체인 대만의 TSMC는 전년 대비 2% 줄어든 100억 달러, 미국의 마이크론은 50억 달러 규모의 시설투자를 집행할 것으로 예측됐다. 전체적으로 한국 반도체 기업들이 1~2위 자리를 수성하기 위해 공격적 투자를 늘리는 가운데 후발 주자들은 도시바 인수전 등을 관망하며 투자 시기를 저울질하고 있다.



윤홍우 기자
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