3일 특허청에 따르면 플라즈마 관련 특허 출원이 지난 2012년 15건에서 지난해 165건으로 크게 늘었다. 플라즈마는 고체 상태의 물질이 에너지를 받으면 액체로, 다시 기체로 변화하며, 기체에 더 큰 에너지를 가하면 원자핵과 전자로 나뉘어 이온화된 상태를 말한다. 플라즈마가 사용되는 기술분야 가운데 반도체 생산을 위한 표면 공정 등 표면 처리용 장치가 2012년 4건에서 2014년 28건, 2016년 136건으로 급증했다. 최근 5년간 플라즈마 출원 기술 분야의 대부분인 72%를 차지한다.
플라즈마 기술을 표면 처리에 적용하면 대량 처리가 가능하고, 독성이 강한 액체 화학약품을 사용하지 않아 공해유발 공정이나 난 공정을 대체할 수 있다. 이런 장점을 활용해 반도체 고밀도 집적회로 등 정밀한 제조 공정과 디스플레이, 플라즈마 표면 처리를 거친 유리창, 플라즈마 처리 섬유 등 산업 공정 곳곳에서 우리 생활을 변화시킨다.
성백문 특허청 전력기술심사과장은 “반도체와 디스플레이 산업에서 플라즈마 관련 기술의 활용도가 꾸준히 높아지고, 바이오 분야에서 플라즈마를 이용한 살균과 녹조 제거, 환경 분야에서 자동차 매연 저감장치, 의학 분야에서 치아 미백·기미 치료 등 새로운 응용분야를 위한 플라즈마 기술 수요가 계속 늘어난다”며 “관련 기술 출원도 당분간 꾸준히 늘어날 것”으로 예상했다.
