이석희 SK하이닉스 사장 "중국 EUV 도입, 아직 시간 충분히 있다"

이석희 SK하이닉스 사장이 미국 정부의 중국 극자외선(EUV) 노광 장비 수출 제재로 자사 우시 반도체 팹 공정 전환에 차질이 있을 것이라는 외신 보도에 대해 “아직 시간이 충분히 있다”며 우려를 일축했다.

이석희 사장은 22일 서울 코엑스에서 열린 ‘제 14회 반도체의 날’ 기념식에 참석해 미국의 중국 EUV 노광 장비 제재로 우시 팹 EUV 공정 도입에 차질이 생길 것이라는 일각의 지적에 대해 이렇게 밝혔다.



이 사장은 “올해 7월 1a D램 본사에서 양산이 시작돼서 시간이 충분히 있다”며 “현재 이천 사업장에 EUV 공정을 들이기도 바쁜 상황”이라고 설명했다.

EUV 노광 장비는 네덜란드 ASML이 세계에서 독점으로 생산하는 장비다. 이 장비는 초미세 회로를 만들어내기 위한 필수 시스템으로 주목 받고 있다. SK하이닉스는 올해 초 자사 신규 팹 ‘M16’에 처음으로 이 장비를 들였고, 하반기 이 시스템으로 10나노급 4세대(1a) D램 양산을 시작했다.

현재 M16에서의 SK하이닉스 EUV D램 생산 비율은 회사의 전체 D램 생산량 가운데 상당히 적은 비율로 알려진다. 이 사장의 발언은 현재 회사는 M16에서의 EUV D램 생산량 확대에 집중하고 있기 때문에, 미-중 무역 분쟁이 회사의 단기 EUV D램 생산 계획과 우시 팹 공정 전환 방침에 큰 영향을 주지 않고 있다는 것으로 해석된다.

이 사장은 4조7,000억원을 투자해 EUV 노광 장비를 오는 2025년까지 도입하는 장기 계약에 대해서는 “계속 들여올 것이다”라고 말했다.