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테스, 플라즈마 처리장치 특허 취득

입력2010.04.13 14:55:10 수정 2010.04.13 14:55:10

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테스는 13일 플라즈마 처리장치에 관한 특허를 취득했다고 공시했다. 테스 관계자는 “이번 특허는 고밀도의 플라즈마를 분사해 기판에 형성된 박막의 균일도를 높이는 장치에 관한 것”이라며 “반도체 및 태양전지 장비 개발 때 기술 및 가격경쟁력 강화 효과가 기대된다”고 밝혔다.

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이재유 기자

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