SK하이닉스가 16일 중국 심천에서 진행한 ‘2016 SK하이닉스 모바일 솔루션 데이’ 행사에서 송현종 Sk하이닉스 부사장이 환영사를 하고 있다./사진제공=SK하이닉스SK하이닉스가 올해 하반기 현재 제품보다 전력효율이 개선된 차세대 D램 솔루션을 내놓는다.
SK하이닉스는 16일(현지시간) 중국 심천에서 주요 모바일 업체들을 초청해 ‘2016 SK하이닉스 모바일 솔루션 데이’ 행사를 개최했다. SK하이닉스는 이 자리에서 현재 LPDDR4보다 전력 효율이 20% 개선된 LPDDR4X를 올 하반기 중 개발할 계획이라고 밝혔다. LPDDR4X는 앞서 삼성전자가 올해 초 모바일 월드 콩그레스(MWC)에서 개발했다고 밝힌 바 있다. 업계에서는 LDPPR4X가 내년쯤 양산이 시작될 것으로 보고 있다.
SK하이닉스는 D램 부문에서는 20나노 초반급 공정 기반의 6GB(기가바이트) 및 4GB LPDDR4 솔루션을 선보였다. 낸드플래시 부문에서는 2세대 3D 낸드를 기반으로 한 모바일용 128·64·32GB UFS 2.1 제품의 고객 인증을 진행 중이라고 설명했다.
이밖에 자동차용 64·32·16·8GB eMMC 5.1 제품도 주요 고객 샘플링을 진행하고 있다고 밝혔다. D램과 낸드플래시 뿐만 아니라 모바일 제품 카메라의 핵심 부품인 CIS도 다양한 고객 요구에 맞춰 500만 화소부터 1,300만 화소까지 선보이며 모바일 시장에서의 입지를 더욱 넓혀가겠다고 밝혔다.
올해 ‘2016 SK하이닉스 모바일 솔루션 데이’ 행사는 ‘함께 한계를 극복하고 전진하자’를 슬로건으로 개최됐다. SK하이닉스는 2014년부터 매년 행사를 진행하고 있다. 400명이 넘는 인원이 참석했다. SK하이닉스의 중국 주요 고객인 화웨이, 샤오미, 레노버 등과 중국 최대 이동통신 업체인 차이나모바일, 칩셋 업체인 퀄컴, 미디어텍 등 모바일 산업 핵심 업체들이 작년에 이어 다시 참여했다. 최근 주목 받고 있는 스마트폰 업체 오포, 비보 외에도 통신 업체인 차이나유니콤도 참석했다. 송현종 SK하이닉스 마케팅부문장은 “중국은 세계 최대의 스마트폰 소비·생산 시장으로 성장했고 양적·질적 성장을 바탕으로 모바일 생태계의 중심이 됐다”며 “SK하이닉스는 이번 행사를 통해 주요 고객 지원 및 전략적 협력 활동을 강화하고 최적의 모바일 솔루션을 공유하며 함께 전진하겠다”고 말했다.
