특허청은 중국, 일본 특허청과 공동으로 오는 16일 서울 역삼동 한국과학기술회관에서 ‘한·중·일 디자인 포럼’을 개최한다고 10일 밝혔다.
올해 포럼 주제는 ‘캐릭터 디자인의 보호’로 세부 내용은 △지식재산권을 통한 보호 △중국의 만화이미지 디자인의 보호·일본 캐릭터의 법적 보호 △기업의 캐릭터 침해 및 대응사례 △중국 캐릭터산업과 지식재산권 유통 및 이용실태 △일본 애니메이션의 해외진출 등이다.
포럼은 모두 동시통역으로 진행된다. 디자이너와 기업 지재권 담당자, 변리사 등 캐릭터디자인 보호에 관심 있는 누구나 특허청 홈페이지(www.kipo.go.kr)에 신청하면 참가할 수 있다.
포럼은 올해 8회차로 각국이 차례대로 연다.
