삼성전자 올 시설투자 46조…반도체에만 29조

삼성전자(005930)는 올해 전체 시설투자 규모가 46조2,000억원에 달할 것으로 예상된다고 31일 밝혔다. 지난해 시설투자(25조5,000억원) 보다 80% 가량 증가한 것이다.

사업별로는 반도체 29조5,000억원, 디스플레이 14조1,000억원 수준이다. 3·4분기 시설투자는 총 10조4,000억원이며 반도체에 7조2,000억원, 디스플레이에 2조7,000억원이 투자됐다. 3분기 누계로는 32조9,000억원이 집행됐다.

메모리 반도체의 경우 V낸드 수요 증가 대응을 위한 평택 1라인 증설과 D램 공정전환을 위한 투자가 진행되고 있다. 파운드리는 10나노 공정 생산라인 증설에 투자되고 있다. 디스플레이의 경우 플렉서블 유기발광다이오드(OLED) 패널 고객 수요 대응을 위한 생산라인 증설 투자가 진행 중이다.



4분기 투자는 상당 부분이 반도체 사업에서 이뤄질 예정이다. 주로 신규부지 조성과 클린룸 공사 등 인프라 구축에 쓰일 전망이다.